美国政府寻求限制出口，防止中国购买ASML的深紫外芯片制造设备。

美国政府据报正在施压荷兰政府，要求其阻止半导体设备制造商阿斯麦(ASML)向中国销售其较早期的深紫外光刻(DUV)系统。根据彭博新闻社周二的报道（引用匿名消息人士的说法），美国官员还在试图说服日本政府停止日本尼康公司(Nikon)的DUV系统对华销售。阿斯麦以及美国和荷兰官员均拒绝对这份报道进行评论。

中国致力于获取DUV系统，因为它一直无法获得阿斯麦更先进的极紫外光(EUV)设备，这类设备越来越多地被用于最先进的芯片组件，例如苹果公司的M2芯片和英伟达的H100数据中心GPU。阿斯麦是唯一生产EUV设备的公司。在美国的施压下，荷兰政府未向阿斯麦颁发向中国运送EUV系统的许可证。由于阿斯麦在DUV系统市场占据主导地位，特别是在最先进的浸没式光刻机领域，美国官员正试图切断中国对这种较早期但仍被广泛使用的技术的获取。

作为中国最大的芯片制造商，中芯国际(SMIC)是该国正试图从阿斯麦大批采购DUV系统的半导体制造商之一。根据《商业韩国》(BusinessKorea)的一篇报道，中芯国际计划投资110亿美元在2023年前提升其DUV产能。虽然DUV系统主要用于晶体管密度较低的较早期制造工艺，如30纳米工艺，但半导体制造商可以使用多重图形技术来制造更密集的工艺节点，如10纳米工艺。台积电(TSMC)在其7纳米工艺的前两代中依赖DUV，不过这家台湾代工巨头与英特尔和三星一样，目前正专注于为下一代工艺采用EUV。

如果美国成功停止阿斯麦的DUV系统对华销售，这一举措可能会对该公司的收入造成重大打击。根据彭博新闻社的数据，中国的芯片工厂占阿斯麦2021年销售额的14.7%。成功的出口禁令将显著遏制中国扩大其半导体制造足迹的努力，并将加剧之前对美国公司其他先进芯片制造设备的限制所产生的影响。

该禁令将被视为美国的战略胜利，尽管它可能更多地惠及正在建立芯片制造产能的欧洲和其他地区。鉴于这个西方大国目前正在为批准英特尔等公司申请的芯片补贴而苦恼，这一点尤为重要。