美国官员怀疑中国非法将ASML最先进的极紫外光刻设备走私入境；ASML对此予以否认。

华盛顿怀疑中国可能已获得ASML的极紫外光刻机，这是世界上最先进的芯片制造工具之一。ASML表示，数据、物流和自身的追踪系统都指向相反的结论。

这个指控很容易理解但难以置信：尽管有多年的出口管制，ASML的一台EUV光刻机可能已经到达中国。如果属实，这将是半导体供应链中最大的泄密事件之一。即使不属实，它也说明华盛顿对失去对中国AI芯片的最佳卡点有多么紧张。

据彭博社报道，美国商务部长霍华德·卢特尼克今年早些时候在与ASML高管的会议中提出了这一担忧。ASML的回答很直接：没有。这家荷兰公司在华盛顿流传了一份标题为"未发现中国有任何ASML EUV系统"的文件，声称全球有314台EUV机器在运营，26台已被停用，中国没有。

这是最有力的事实。ASML表示，它可以检测其EUV设备中的中断、异常行为或连接丧失，客户无法在没有ASML参与的情况下移动或重新安装这些系统。该公司还否认向中国运输EUV机器、EUV专用模块或EUV运输设备。你应该认真对待这一点，因为这不是某人可以藏在仓库里的一盒服务器。

这台机器巨大。EUV系统重约180吨，包含大量精密部件，通过专门的货运移动，需要广泛的安装和校准支持。完整的运输需要大约250个木箱和多次货运航班。你不会丢失一辆巴士。

中国从未被允许购买一台。自第一届特朗普政府敦促荷兰阻止向中国客户出口EUV以来，ASML的顶级扫描仪已成为西方在芯片方面最干净的压力点。台积电使用EUV为英伟达和苹果制造先进处理器。华为和中芯国际没有相同的路径。这就是为什么一台传闻中的扫描仪如此重要。

彭博社报道称，美国高级官员指向了EUV相关组件和运输设备，但未公开证据。商务部也不愿说明是否拥有中国境内存在实际EUV扫描仪的证明。这使ASML的库存数量面临未披露的怀疑——这不足以称该机器被走私。

其背后有真实的政策斗争。众议院外交委员会于2026年4月22日推进了《MATCH法案》，旨在加强对流向中国和其他关切国家的关键半导体制造设备的控制。ASML的较旧DUV机器现在与最先进的工具一起受到审查。

卢特尼克的部门在光刻竞争中还有另一个利益。2026年6月2日，商务部和NIST最终确定了《芯片法案》对xLight的1.5亿美元激励。xLight是一家帕洛阿尔托公司，正在奥尔巴尼纳米技术园区建造用于EUV光刻的自由电子激光光源。xLight将该系统描述为光刻的未来光源，而非ASML的替代品。但这显然很尴尬：同一部门质疑ASML，同时也在资助针对ASML世界最有价值部分的技术。

北京没有等待丢失的ASML扫描仪来解决其问题。清华大学研究人员一直在研究稳态微束团（SSMB），这是一种产生EUV光的粒子加速器方法。清华大学将其描述为光刻的可能高功率EUV光源，研究人员正在讨论在雄安设立一个100至150米的存储环站点。这不是近期的救援；这是一个长期的赌注。

更近的威胁更加务实。与华为广泛关联的深圳设备制造商芯元在2025年3月的中国国际半导体展览会上展示了大约30台工具，包括刻蚀、薄膜沉积、扩散、检测和测量机器。据TrendForce引用中国媒体和之前彭博社和路透社的报道，芯元在2025年9月以约650亿元人民币的估值寻求融资。这不是ASML，但仍然是一个严肃的工业推动。

路透社还报道称，芯元获得了一项专利，用于采用DUV光刻和自对齐四重图案化的多图案化技术来达到与5纳米芯片相关的技术阈值。问题很熟悉：额外的图案化步骤增加了复杂性和缺陷风险。它可以帮助中国进一步利用旧工具，但不会使EUV变得无关紧要。

那么泄漏是真实的吗？除了机密渠道外，没有人提供了证明。ASML的计数——314台运营中的EUV机器、26台已停用、中国零台——比华盛顿的公开案例更具体。更聪明的结论不那么戏剧化但更有用：中国仍然缺乏ASML的EUV机器，美国现在足够担心，以至于将每一个木箱、组件和较旧的DUV销售都视为同一场斗争的一部分。