中国据报实现DUV光刻机国产，打破ASML垄断，降低对出口管制设备依赖。

中国已启动浸没式深紫外光（DUV）光刻机的国内生产，这标志着在国际出口管制日益收紧的背景下，中国向半导体自给自足迈出了重要一步。这些精密工具对于在硅片上蚀刻电路图案至关重要，历来几乎完全由荷兰设备制造商ASML供应。

此举导致ASML股价下跌4.6%，投资者评估该公司在先进光刻系统上近乎垄断地位的潜在削弱。据近期报道，包括中芯国际集成电路制造有限公司（SMIC）、华虹半导体和长鑫存储科技有限公司在内的中国制造商计划在本年度内获得这些国内生产机器的交付。

这些国内机器仍处于早期开发阶段，性能和可靠性尚未达到国际标准。产量预期最初将保持在较低水平，今年预计交付约五台，到2027年扩增至约二十台。业界观察人士指出，最终的市场影响将取决于这些工具的扩产速度以及它们是否能满足大规模生产的技术需求。

获取先进光刻设备已成为全球芯片产业的焦点。虽然中国目前面临进口极紫外光（EUV）光刻系统的限制——这对最先进的芯片工艺是必需的——但该国已加紧努力开发本土替代方案。国内EUV技术研究仍处于原型阶段。一旦这些初期DUV设备在中国制造设施中投入运营，市场将密切关注其性能验证。