미중 지정학적 압박이 ASML을 미국 제재 집행과 중국 수익 의존성 사이에 가두고 있다.

중국 자체 개발의 첨단 리소그래피 칩 프린팅 기계 출시 소식은 유럽의 반도체 장비 제조사 ASML이 미국의 수출 통제가 강화되는 가운데 베이징의 기술 자립 추진으로 인한 새로운 경쟁에 직면해 있음을 부각시키고 있다.

로이터 통신은 잘 알려지지 않은 중국 국영 기업인 상하이 아이성나 전자기술 그룹(Shanghai Aishengna Electronic Technology Group)이 현대적인 칩 제조에 필수적인 국내 생산 침투식 심자외선(DUV) 리소그래피 장비의 대량 생산을 주도하고 있다고 보도했다. 이 보도 이후 ASML 주가는 이틀 동안 약 10% 하락하며 시가총액에서 600억 유로 이상을 날렸다.

ASML은 AI 칩에 회로를 인쇄하는 데 사용되는 DUV 및 더 정밀한 EUV 리소그래피 기계 시장에서 글로벌 시장을 장악하고 있다. 동사의 주가는 지난 한 해 동안 급등했으며, 2026년에 약 50% 상승하여 투자자들은 이 회사가 유럽 최초의 조달 달러 기업을 될 수 있다는 확신을 갖게 되었다.

중국의 이 계획을 최초로 보도한 더 인포메이션(The Information)에 따르면, 베이징은 올해 침투식 DUV 장비 5대를 생산하고 2027년에는 주요 중국 반도체 업체에 판매할 목적으로 20대를 생산할 계획이다. 이는 ASML의 2025년 해당 시스템 생산량 131대에 비해 여전히 현저히 낮은 수준이다. JP모건 분석가들은 중기적 피해는 제한될 것이라고 제안했지만, 이것이 ASML의 중국 매출에 장기적인 위험을 초래하는 "중국 장비 자립 이야기의 또 다른 데이터 포인트"임을 인정했다.

ASML은 미국 주도의 수출 통제 조치로 인해 가장 정교한 EUV 제품과 최상의 침투식 DUV 도구를 중국에 판매하지 못함에도 불구하고, 중국의 매출 비중이 연간 약 90억 유로로 전체의 약 20%를 차지한다고 보고했다. 현재 미국 의회는 ASML의 남은 침투식 DUV 수출을 차단할 수 있는 입법을 논의 중이다. 이는 정확히 아이성나가 공략하려는 부문이다.

그러나 경쟁력 있는 침투식 DUV 리소그래피 시스템을 개발하는 것은 ASML의 시장 지배력을 무너뜨리는 것과 크게 다르다. ASML은 지난 20여 년간 수율과 처리량에서의 꾸준한 성능 개선을 통해 선두 자리를 굳혔으며, 일본의 니콘(Nikon)과 캐논(Canon)을 포함한 경쟁사들을 제쳤다. 일반적으로 덜 우수한 국내 시스템을 선택하는 제조사는 낮은 생산성과 칩당 높은 비용을 감수해야 한다.

하지만 미국의 수출 규제는 이러한 계산을 변화시킨다. 중국 반도체 업체들은 외국 장비의 가용성이 나중에 미국에 의해 제한될 수 있는 상황에 처할 경우, 열등한 국내 장비라도 수용할 수 있다. 네덜란드 라이덴 아시아 센터(Leiden Asia Center)의 연구원인 산네 반 더 루흐트(Sanne van der Lugt)는 이 발전이 더 엄격한 수출 통제가 역효과를 낼 수 있는 사례를 보여준다고 지적했다. 그녀는 "이것이 보여주는 바는 미국의 수출 통제가 성공적으로 중국 리소그래피를 위한 비즈니스 타당성을 창출했다는 것이다. 그것은 의도했던 바가 아니었지만, 그것이 결과다."라고 말했다.

반 더 루흐트는 중국 기업들이 이미 장기적으로 네덜란드 기술에 의존할 수 있다고 진정으로 신뢰하지 않으며, 이로 인해 중국 고객들의 계산은 명확해진다고 덧붙였다. "그들에게 있어 이것은 있거나 전무하거나 둘 중 하나일 뿐이다."