China stockpiled 343 immersion DUV lithography tools to circumvent EUV export restrictions and sustain advanced semiconductor manufacturing.

Massive DUV tool acquisition demonstrates China's strategy to maintain domestic advanced-chip production capacity despite US export controls on EUV equipment.

업계 전문지Slicast · 2026년 10월 5일 13:40 UTC · 미국 · 출처: news.lavx.hu

중요도 80

중국 반도체 제조업체들이 2012년 이후 약 343개의 침지식 극자외선 노광 스캐너를 축적해 왔다고 이번 주 발표된 기술 및 국가전략 센터(CTS) 보고서가 밝혔습니다. 이 재고는 ASML의 극자외선 시스템에서 단절되었음에도 불구하고 첨단 프로세서를 생산할 수 있는 상당한 역량을 제공합니다.

이 비축에는 38나노미터 해상도와 2.5나노미터 오버레이 정렬을 갖춘 270개의 ASML Twinscan NXT:1980i 스캐너가 포함되어 있으며, 이는 7nm급 프로세스 노드에 필요한 다중 패터닝 기술을 가능하게 합니다. CTS는 또한 총합에 22개의 NXT:2050i와 6개의 NXT:2000i 시스템을 포함합니다.

수출 규제는 중요한 공백을 남깁니다. 원래 덜 첨단 노드용으로 구매한 노광 장비를 더 정교한 생산용으로 재배치할 수 있으나, 더 높은 비용과 낮은 수율을 감수해야 합니다. "기존 수출 규제는 중요한 공백을 남기는데, 원래 덜 첨단 프로세스 기술용으로 획득한 노광 장비가 더 정교한 프로세스 기술용으로 잠재적으로 재배치될 수 있기 때문입니다"라고 CTS 보고서는 명시합니다. 이 기구는 중국으로의 모든 침지식 DUV 수출을 금지하고 첨단 반도체 공장에 설치된 기계의 교체 부품 및 유지보수 서비스를 제한할 것을 권고합니다. 이는 4월 의회에 상정된 초당파적 MATCH 법안과 일치하는 입장입니다.

네덜란드 당국은 2023년 9월 NXT:2000i 및 더 첨단의 침지식 DUV 스캐너에 대한 수출 허가 요건을 도입했으며, 이는 중국으로의 배송을 사실상 차단했습니다. 중국 구매자들은 이후 덜 첨단의 NXT:1980i로 전환했습니다. CTS는 중국 반도체 공장이 2024년 약 90개, 2025년 89개의 NXT:1980i 장치를 구매했으며, 2년간 130억 달러 이상을 지출했다고 추정합니다. 네덜란드는 2024년 9월 NXT:1980i에 대한 규제를 확대했으나, 개별 수출 허가는 여전히 부여될 수 있습니다. ASML의 구형 NXT:1965Ci 시스템도 여전히 이용 가능할 수 있습니다.

ASML의 재무 공시는 이러한 급증을 반영합니다. 중국은 2024년 배송 목적지 기준 회사의 순 시스템 판매의 41%, 2025년 33%, 2026년 1분기 19%, 2분기 14%를 차지했습니다. 이는 ASML이 이전에 신호한 감소입니다.

CTS의 수치는 ASML의 공개 공시로부터 독립적으로 검증할 수 없습니다. ASML은 2024년과 2025년에 각각 129개와 131개의 ArFi 침지식 시스템을 전 세계적으로 판매했다고 보고했습니다. CTS의 수치가 정확하다면, 규제가 강화되었음에도 불구하고 중국 구매자들은 해당 연도에 글로벌 침지식 DUV 산출의 약 70%와 68%를 흡수했습니다. 구형 NXT:1980Di 시스템도 중고 시장에서 유통되고 있으며, 추가적인 조달 경로를 제공합니다.

이 보고서는 수출 규제 체계의 지속적인 과제를 강조합니다: 기존의 설치 기반이 다중 패터닝을 통해 재목적화될 수 있을 때, 최첨단 도구에 대한 규제는 고급 칩 생산 능력을 즉시 제거하지 못합니다. 다중 패터닝은 2018년부터 2019년까지 EUV가 널리 이용 가능해지기 전에 산업이 7nm 생산을 위해 채택한 기법입니다.

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