중국 DUV(극자외선) 리소그래피 기술 돌파 보도; ASML과 미국 반도체 주가 급락

반도체 자본재 주식들이 월요일에 급격한 반전을 보였다. 장 시작 전, 이 섹터는 이란의 지정학적 긴장 완화와 월스트리트 저널(WSJ)이 보도한 엔비디아(Nvidia)가 오픈AI 데이터센터 프로젝트에 대한 거대한 2,500억 달러 자금 조달을 보장하기 위한 협상을 진행 중이라는 호재로 인해 사전 시장 최고치를 기록하고 있었다. 하지만 이러한 AI 기반의 환호성은 순식간에 사라졌다.

ASML은 초기 2% 이상의 상승분을 모두 날려버렸고, 이는 미국 동종 기업인 애플드 머티리얼스(Applied Materials, AMAT), 램 리서치(Lam Research, LRCX), KLA 코퍼레이션(KLA Corp, KLAC)까지 동반 하락시켰다. 이는 더 인포메이션(The Information)의 속보성 보도 이후 발생한 일이다. 해당 보도에 따르면, 상하이 소재 국영 기업의 중국산 임머전 DUV(심자외선) 노광 장비 양산을 최초로 성공적으로 시작했다. 간행물은 이 기업이 상하이 유리앙셩 테크놀로지(Shanghai Yuliangsheng Technology)를 포함한 다른 중국 기업들의 DUV 개발 팀을 결집하여 이 이정표를 달성했다고 지적했다. 이는 베이징이 서방 기술을 우회하며 현지화된 칩 공급망을 구축하려는 노력에서 중요한 도약이다.

이러한 돌파구는 미 의회가 MATCH 법안을 추진하는 시점에 발생했다. 이 양당 입법은 중국이 바로 이러한 DUV 장비들을 구매하거나 서비스하는 것을 막는 것을 목표로 한다. 만약 중국이 더 인포메이션이 보고한 바와 같이 이를 자체적으로 제조할 수 있게 된다면, 임박한 미국의 제재는 완전히 무력화될 수 있다.

ASML은 첨단 노광 분야에서 의심할 여지 없는 글로벌 독점 기업이다. 미국과 네덜란드의 수출 통제로 인해 ASML은 최첨단 EUV(극자외선) 장비를 중국에 판매하는 것이 이미 금지되었기 때문에, 중국 반도체 제조사들은 ASML의 구형 임머전 DUV 도구들을 적극적으로 비축해 왔다. 이러한 DUV 판매는 ASML에게 막대한 수익 원천이 되었다. 이제 중국 반도체 제조사들이 국내 공급업체로부터 실효성 있는 DUV 도구를 구매할 수 있게 된다면, ASML이 해당 지역에서 가진 가장 큰 발판은 근본적으로 위협받게 된다.

ASML이 실리콘 위에 회로를 인쇄하는 노광 공정을 담당하는 반면, 애플드 머티리얼스, 램 리서치, KLA는 재료 증착, 웨이퍼 식각, 미세 결함 측정 등 다른 핵심 단계에 필요한 장비를 제공한다. 노광은 반도체 제조 과정에서 가장 어렵고 복잡한 병목 현상으로 널리 간주된다. 시장의 논리는 잔혹하다: 만약 중국 공학이 노광 병목 현상을 정복했다면, 공급망의 나머지 부분도 대체 가능성에 매우 취약하다는 것이다. 투자자들은 완전히 자국화된 중국 칩 산업이 결국 중국의 총 가용 시장(TAM)을 영으로 만들 것이라는 두려움 때문에 미국 장비 주식을 매도하고 있다.

서방의 수출 통제는 중국의 칩 능력을 구세대 공정 수준에서 동결하도록 설계되었다. 그러나 시장은 중국을 ASML의 최상위 도구들에서 차단하는 것이 베이징으로 하여금 자체적인 국내 연구개발(R&D)을 공격적으로 가속화하게 만들었다는 사실을 깨닫고 있다. 투자자들에게 이것은 최악의 시나리오를 의미한다: 서방 기업들은 매력적인 중국 수익원을 상실하지만, 중국의 기술적 진전을 저지하려는 지리적 목표는 여전히 실패하게 된다.