ASML否认先进EUV光刻工具已违反出口管制到达中国的报告。

荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）否认了一份报道中关于其先进极紫外（EUV）光刻机之一可能违反出口限制流入中国的指控。阿斯麦表示，从未向中国运送过EUV系统，也未供应任何专门为此类机器设计的组件、模块或设备，并且始终符合出口管制法规。

该公司在彭博社报道美国商务部长霍华德·卢特尼克向阿斯麦高管表达担忧、称该技术可能已进入中国、违反了美国主导的出口管制后，发表了这一澄清声明。阿斯麦否认了这些指控，指出其一直在调整运营以符合不断演变的出口管制法规。

荷兰政府加强了对芯片设备出口的严格监管。外交部证实，欧盟《双用物项条例》和国家措施覆盖的半导体制造工具、技术和相关组件需要出口许可证，并将严格执行。

阿斯麦的EUV机器是半导体制造中最先进的工具之一，可用于生产用于人工智能、高性能计算和其他先进应用的尖端芯片。这些系统体积庞大——重约180公吨，大小大致相当于一辆校车。

这场争议反映了美国日益加强的限制中国获得先进半导体技术的努力。今年4月，美国议员提出了立法提案，目的是确保盟国与美国的出口管制政策保持一致，提案中专门提及了阿斯麦的设备。

这个问题还突显了中国并行推进开发国产替代品的努力。路透社去年报道称，中国研究人员在前阿斯麦工程师的协助下建造了原型EUV机器，强调了北京减少对外国芯片制造技术依赖的决心。