国有上海企业开始量产DUV浸没式光刻机；首批设备将2026年交付至中芯国际、华虹、长江存储。

一家上海国企已开始大规模生产浸没式深紫外光刻机，并将在今年向中芯国际、华虹半导体和长鑫存储交付首批产品，据《信息》报道，援引两位知情人士的消息。生产目标计划2026年生产约5台、2027年约20台。这三家企业均被美国众议院第8170号决议（一项正在国会推进的法案）列为受限制实体，该法案将禁止它们从阿斯麦获得产品销售和服务。

《信息》未透露制造商名称，但消息人士称该运营汇集了来自包括国企初创公司上海郁亮盛科技在内的多家中国公司的DUV开发团队。中芯国际自2025年9月以来一直在测试一台郁亮盛浸没式工具。新系统中的大部分组件来自国内采购，尽管某些关键部件仍从日本进口，而本地供应商的延误制约了今年的产量。

4月推出并于4月22日被众议院外交委员会通过的MATCH法案，将中芯国际、华虹、长鑫、华为和长江存储列为受限制实体。其浸没式DUV条款涵盖服务和技术援助，而非仅限于新出口，扩展范围涵盖已在中国晶圆厂运行的工具——这些设施在过去两年通过二级渠道升级来最大化利用其现有光刻机队的产能。

阿斯麦首席财务官罗杰·达森在该公司7月财报电话会议中告诉分析师，阿斯麦预计2026年将交付约130台浸没系统，与2025年产量相当。达森补充说，阿斯麦计划在2027年将浸没产能提升30%，并在调查2028年再增加30%的可能性。中国约占阿斯麦今年净销售额的20%，低于2025年的33%，主要由主流逻辑芯片需求驱动。

浸没式DUV光刻可在单次曝光中印制28纳米级特征，通过多重图案化可达到7纳米，但代价是套刻误差和良率下降。阿斯麦首席执行官克里斯托弗·福凯在同一次财报电话会议中表示，不断上升的DRAM光刻需求部分反映了客户用更廉价的单次曝光EUV替代多重图案化。

AI未来项目的独立分析于6月预测，商用级中国浸没式DUV将在2030年代中期实现，而阿斯麦目前占据浸没光刻市场的98.7%。新的中国光刻机获得生产认证可能需要数月时间，且其性能和制造质量均落后于阿斯麦工具。中国国产EUV工作于12月首次作为工作原型被报道，但距离实际部署仍需数年时间。